Powder ALD機台
如何延長量子點(Quantum Dot, QD)的生命周期
  • 眾所周知,QD 會受到氧氣、水分和熱的傷害,因此在QD的表面塗布 Al2O3(passivation)可以延長使用壽命並提高穩定性
  • 原子層沉積(ALD)是填充和塗布QD 薄膜的理想技術,因為它在亞奈米級別中提供了對薄膜生長的極好控制,並且在溫和的加工條件下產生了絕佳覆蓋性(conformal)的塗層

機台架構
  • 可選配ozone generator,有更多氧化源選擇
  • 特殊流場設計,帶動powder揚起
  • 特殊加熱器提供均勻的腔體溫度
  • 可支援3組precursor / co-precursor管路
  • 可應用於粉末包覆成膜,有效保護粉體